[웹이코노미=김민호 기자] 삼성전자가 경기도 팽택캠퍼스 2라인에 8조원 규모의 낸드플래시 생산라인을 구축한다. 대내외 경영 불확실성이 커지고 있지만 핵심 사업인 반도체 부문에 대한 투자 등을 통해 미래 기회를 선점하겠다는 것이다.

삼성전자는 경기도 평택캠퍼스 2라인에 낸드플래시 생산라인을 구축하는 투자를 단행한다고 1일 밝혔다. 지난달 평택 2라인에 낸드플래시 생산을 위한 클린룸 공사에 착수했으며, 내년 하반기부터 양산을 시작할 계획이다.

앞서 삼성전자는 지난달 21일에도 평택캠퍼스에 극자외선(EUV) 파운드리 라인을 조성하겠다고 밝힌 바 있다. 이번 투자의 정확한 규모는 알려지지 않았지만 시장에서는 8조원 규모에 달할 것으로 전망하고 있다.

거듭된 투자로 삼성전자 평택캠퍼스는 2015년 단지 조성공사를 한 지 5년 만에 메모리 반도체와 시스템 반도체를 함께 생산하는 반도체 복합 거점으로 거듭나게 됐다. 실제 삼성전자가 지난 2017~2018년 글로벌 메모리 반도체 호황기에 최고 실적을 달성할 수 있었던 이유도 이같은 공격적 투자로 시설을 확충해 놓은 영향이다.

업계에서는 삼성전자가 점차 증가하는 메모리 반도체 수요를 잡고 후발 주자와 격차를 벌리기 위해 적극적 투자를 이어가고 있다고 분석했다. 실제 올해 초부터 전 세계로 퍼진 코로나19 영향으로 언택트(비대면) 문화가 확산되며 서버용 메모리 반도체가 급증한 바 있다.

아울러 중국 YMTC는 지난해 말 5세대 64단 낸드플래시 양산에 돌입, 올해 말에는 6세대 128단 적층형 낸드플래시를 양상하겠다고 밝히며 삼성전자를 추격하고 있다.

이재용 부회장은 지난해 4월 '반도체 비전 2030'를 선포하며 오는 2030년까지 시스템 반도체 1위를 달성하겠다는 목표를 밝혔다. 이를 위해 시스템 반도체 분야 연구개발과 생산시설을 확충에 총 133조원을 투자하고 전문인력 1만5000명을 직접 채용한다는 계획이다.

업계 관계자는 “미중 무역분쟁으로 글로벌 반도체 시장에서 예측불가한 상황이 늘어날 것으로 보인다”면서도 “삼성전자는 과감한 투자를 통해 선두주자의 자리를 지키고 후발 주자와 초격차를 이어나갈 것으로 전망된다”고 밝혔다.

김민호 웹이코노미 기자 webeconomy@naver.com